パターン露光装置及びそのパターン転写歪み補正方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：花輪義男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-164233
公開番号（公開出願番号）：特開平11-016808
出願日： 1997年06月20日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：

【要約】【課題】従来のパターン露光装置のパターン転写を行う投影レンズの歪曲は無くすことができず、複数のレンズを組合わせて、互いの収差を打ち消し合い最小となるように補正しているため、パターン転写歪みを完全に補正することはできず、パターンの微細化が進むに伴ってその歪みが大きく影響する。【解決手段】本発明は、液晶等を用いて電気的にパターンが移動可能なレクチル11を備え、完全に歪みのないパターンが転写されるように、予め投影レンズ4の歪曲に基づいて、パターンを意図的に歪めてデータ格納部13に格納し、露光の際に選択されたデータによるパターンが描画されたレチクル11を透過したパターン光が投影レンズ4の歪曲により補正された如く、歪みのないパターンとして転写されるパターン露光装置及びそのパターン転写歪み補正方法である。

請求項（抜粋）：

レチクルに描画されたパターンに光を透過させて投影し、前記パターンと相似なパターンを転写するパターン露光装置において、前記レクチルが電気的にパターンを変形することが可能で、電気的に透過/不透過の切り換えが可能な材料からなるラスタマトリックスで構成された物質を備え、前記レクチルのパターンを電気的に変形するパターン駆動手段と、前記パターンに関する情報を格納するデータ格納部と、前記格納部から選択した情報を前記パターン駆動手段へ供給するレチクルデータ伝送手段と、を具備することを特徴とするパターン露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 515 F , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 502 W , H01L 21/30 516 A

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