特許

J-GLOBAL ID：200903009984574978

フレーム構造及びこれを用いた処理装置

発明者： 久野 力 ,  渡邉 嘉昭
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (3件)： 小泉 雅裕 ,  中村 智廣 ,  成瀬 勝夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-160604
公開番号（公開出願番号）：特開2004-004367
出願日： 2002年05月31日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：

【課題】簡単な構成で剛性を確保でき、しかも、高さ寸法を抑制する。【解決手段】複数の支持体2にて支持されるフレーム構造1であって、複数の支持体2が設けられるベースフレーム3と、このベースフレーム3上に構築される本体フレーム4とを備え、ベースフレーム3は、外形断面略矩形状のフレーム材5を少なくとも井桁状に連結し、上側に位置する上側フレーム材5aに支持体2を固定する。また、このフレーム構造1を備えた処理装置をも対象とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

複数の支持体にて支持されるフレーム構造であって、 複数の支持体が設けられるベースフレームと、このベースフレーム上に構築される本体フレームとを備え、 ベースフレームは、外形断面略矩形状のフレーム材を少なくとも井桁状に連結し、上側に位置する上側フレーム材に支持体を固定したことを特徴とするフレーム構造。

IPC (3件)：

G03G15/00 ,  B41J29/02 ,  H05K7/18

FI (4件)：

G03G15/00 550 ,  B41J29/02 ,  H05K7/18 D ,  H05K7/18 G

Fターム (19件)：

2C061AP04 ,  2C061DD03 ,  2H171FA01 ,  2H171FA03 ,  2H171FA28 ,  2H171GA03 ,  2H171GA04 ,  2H171GA32 ,  2H171HA02 ,  2H171HA17 ,  2H171HA18 ,  2H171HA22 ,  2H171HA27 ,  2H171HA32 ,  2H171JA17 ,  2H171SA18 ,  2H171SA19 ,  2H171WA01 ,  2H171WA18

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 画像形成装置の支持構造体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-250574   出願人：シャープ株式会社
• 画像形成装置の構造体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-350133   出願人：株式会社リコー
• 支持構造体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-024477   出願人：シャープ株式会社