特許
J-GLOBAL ID：200903009992809453
ポリシラン及びその合成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-253464
公開番号（公開出願番号）：特開平5-093072
出願日： 1991年10月01日
公開日（公表日）： 1993年04月16日
要約：
【要約】【目的】機能性高分子材料として極めて有用な新規な1次元可溶性ポリシランを簡便なプラズマ重合を用いて合成、成膜する。【構成】置換基がフルオロ基、パーフルオロアルキル基、フェニル基、パーフルオロフェニル基、パーフルオロアルキル置換フェニル基から選ばれた同一または異なる2つであるポリシランを対応するジヒドロシランのプラズマ重合で合成、成膜する。【効果】機能性高分子材料として極めて有用な新規な1次元可溶性ポリシランを簡便なプラズマ重合を用いて合成、成膜することができ、さらに、この膜は溶液中で合成したポリマを溶剤に溶解させスピンコートして成膜した膜と同様の膜になる。
請求項（抜粋）：
化1で表されることを特徴とするポリシラン【化1】但し、R1とR2はフルオロ基、パーフルオロアルキル基、フェニル基、パーフルオロフェニル基、パーフルオロアルキル置換フェニル基から選ばれた異なる基であり、nは重合度を表す。
引用特許：
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