特許
J-GLOBAL ID：200903010000581993
カラーフィルタの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-030465
公開番号（公開出願番号）：特開平7-239411
出願日： 1994年02月28日
公開日（公表日）： 1995年09月12日
要約：
【要約】【目的】フィルタ基板上に光吸収性の着色フォトレジストによるプレパターン層と遮光性金属薄膜層との二層構成による光吸収性と遮光性の極薄膜のブラックマトリクスパターン2を形成し、該パターン端部上にオーバーラップする突起状の盛り上がり防止と、パターン露光時間の長大化の解消を達成する。【構成】前記プレパターン層11a及びリフトオフ層12a上より全面に遮光性金属薄膜13を成膜した後、前記リフトオフ層12a上側に相当する前記遮光性金属薄膜13をリフトオフすることにより、フィルタ基板1上にプレパターン層11aと遮光性金属薄膜層13aとによる二層構成のブラックマトリクスパターン2を形成するカラーフィルタの製造方法である。
請求項（抜粋）：
透明なフィルタ基板1の一面上に光吸収性のネガ型着色フォトレジスト11を薄膜状に塗布してパターン露光・現像処理し、ブラックマトリクスパターン状に光吸収性のプレパターン層11aを形成し、次に該プレパターン層11a上より全面にネガ型フォトレジスト12を塗布し、続いてフィルタ基板1の他面側から全面露光し、前記プレパターン層11a上のネガ型フォトレジスト12を現像除去して、プレパターン層11a以外の部分にリフトオフ層12aを形成し、続いて、前記プレパターン層11a及びリフトオフ層12a上より全面に、金属メッキ又は金属蒸着により遮光性金属薄膜13を成膜した後、前記リフトオフ層12aを溶解して該リフトオフ層12a上側に相当する前記遮光性金属薄膜13をリフトオフすることにより、フィルタ基板1上にプレパターン層11aと遮光性金属薄膜層13aとによる二層構成のブラックマトリクスパターン2を形成し、その後、該ブラックマトリクスパターン2形成部分以外のフィルタ基板1表面に、Red、Green、Blueの各着色パターンにより構成されるフィルタ色パターン5を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
IPC (3件)：
G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 505
, G03F 7/00 501
