特許

J-GLOBAL ID：200903010005833583

エレクトロルミネッセンス表示用色変換フィルターの製造方法

発明者： 栄田 暢 ,  舟橋 正和
出願人/特許権者： 出光興産株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 喜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-173345
公開番号（公開出願番号）：特開2000-012217
出願日： 1998年06月19日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：

【要約】【課題】 平滑性やパターン精度に優れ、表面にEL素子を積層した場合に、EL素子の断線等が少ないEL表示装置を提供することができるEL表示用色変換フィルターを容易に提供する。【解決手段】 透光性基板上に、遮光層と色変換層とが平面的に分離配置されたEL表示用色変換フィルターの製造方法において、下記(A)〜(D)工程を含むことを特徴とする。(A)透光性基板上に、パターン化された遮光層を形成する工程(B)光硬化型色変換層形成材料を、遮光層が形成された透光性基板上に製膜する工程(C)前記(B)工程で製膜された光硬化型色変換層形成材料を、透光性基板側から背面露光する工程(D)未硬化の光硬化型色変換層形成材料を除去する工程

請求項（抜粋）：

透光性基板上に、遮光層と色変換層とが平面的に分離配置された色変換フィルターの製造方法において、下記(A)〜(D)工程を含むことを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示用色変換フィルターの製造方法。(A)透光性基板上に、パターン化された遮光層を形成する工程(B)光硬化型色変換層形成材料を、遮光層が形成された透光性基板上に製膜する工程(C)前記(B)工程で製膜された光硬化型色変換層形成材料を、透光性基板側から背面露光する工程(D)未硬化の光硬化型色変換層形成材料を除去する工程

IPC (3件)：

H05B 33/10 ,  G02B 5/20 101 ,  H05B 33/12

FI (3件)：

H05B 33/10 ,  G02B 5/20 101 ,  H05B 33/12 E

Fターム (16件)：

2H048BA11 ,  2H048BA45 ,  2H048BA47 ,  2H048BB02 ,  2H048BB34 ,  3K007AB05 ,  3K007AB18 ,  3K007BB06 ,  3K007CA01 ,  3K007CA02 ,  3K007CA05 ,  3K007DB03 ,  3K007EA04 ,  3K007EB00 ,  3K007FA00 ,  3K007FA03