特許
J-GLOBAL ID：200903010006373233
マスクパターンデータの作成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-179299
公開番号（公開出願番号）：特開平7-036962
出願日： 1993年07月20日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【目的】本発明は、主パターンと周辺パターンとの間のスリットを埋めるマスクパターンデータの作成方法に関し、より簡単な作業で、かつ確実にスリットを探し、更にスリットを埋めて、修正されたパターンデータを作成することが可能なマスクパターンデータの作成方法を提供する。【構成】第1のパターンに対応する第1のパターンデータと第2のパターンに対応する第2のパターンデータとが組み合わされて一つのマスクパターンデータが構成されるマスクパターンデータの作成方法において、パターンデータ上、第1のパターンと第2のパターンとの境界領域でのスリットの有無を検出する検査処理をし、スリットが発生しているとき、スリットを埋めるように第1のパターンを修正し、修正された第1のパターンデータを作成する修正処理をし、第1のパターンデータのフォーマット変換処理をすることを含み構成する。
請求項（抜粋）：
第1のパターンに対応する第1のパターンデータと第2のパターンに対応する第2のパターンデータとが組み合わされて一つのマスクパターンデータが構成されるマスクパターンデータの作成方法において、パターンデータ上、前記第1のパターンと前記第2のパターンとの境界領域でのスリットの有無を検出する検査処理をし、前記スリットが発生しているとき、前記スリットを埋めるように前記第1のパターンを修正し、修正された第1のパターンデータを作成する修正処理をし、前記第1のパターンデータのフォーマット変換処理をすることを特徴とするマスクパターンデータの作成方法。
IPC (2件)：
前のページに戻る
