特許

J-GLOBAL ID：200903010016829103

炭化硼素皮膜の製造方法

発明者： 相原 靖文 ,  伊藤 重則 ,  川崎 真司
出願人/特許権者： 日本碍子株式会社
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-297598
公開番号（公開出願番号）：特開平11-236286
出願日： 1998年10月06日
公開日（公表日）： 1999年08月31日
要約：

【要約】【課題】基材に形成した炭化硼素皮膜に対してクラックが発生することがなく、また、基材からの剥離が生じない炭化硼素皮膜の製造方法を提供する。【解決手段】基材の表面に、プラズマ溶射により炭化硼素を成膜した後、非酸化性雰囲気中において、1100〜2400°Cの温度で熱処理することにより、炭化硼素溶射膜中に存在する酸化硼素を消失させる。

請求項（抜粋）：

基材の表面に、プラズマ溶射により炭化硼素を形成した後、非酸化性雰囲気中において、1100〜2400°Cの温度で熱処理することにより、炭化硼素溶射膜中に存在する酸化硼素を消失させることを特徴とする炭化硼素皮膜の製造方法。

IPC (3件)：

C04B 41/87 ,  C23C 4/10 ,  C23C 4/18

FI (4件)：

C04B 41/87 J ,  C04B 41/87 S ,  C23C 4/10 ,  C23C 4/18