特許
J-GLOBAL ID：200903010018432189
イオンビーム加工装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-230916
公開番号（公開出願番号）：特開平6-076782
出願日： 1992年08月31日
公開日（公表日）： 1994年03月18日
要約：
【要約】【目的】反応性ガスを使用する集束イオンビーム加工装置において2次粒子検出器と電子シャワーの電子源の寿命を延長する。【構成】ガスを遮断するシャッターを設けるか、ガスに耐性を持つ部品で構成した2次粒子検出器と電子源部を差動排気した電子シャワーを構成する。【効果】メンテナンス間隔を現実的な長さに延長することで、装置のデッドタイムを短縮し、稼働時間を向上できる。
請求項（抜粋）：
イオンを発生させるイオン源と、イオンビームを集束・偏向するイオン光学系と、被加工物を設置するステージと、上記イオンの電荷を中和する電子シャワーと、上記イオンの衝撃で上記被加工物から放出される2次粒子を検出する検出器と、上記被加工物にガスを供給するガス供給手段と、上記構成要素を収納する真空チャンバと、上記真空チャンバを排気する真空ポンプ系と、上記構成要素からの信号を計測する計測系、および、それらの電源・コントローラから構成するイオンビーム加工装置において、上記電子シャワーの電子源部分を差動排気する構成としたことを特徴とするイオンビーム加工装置。
IPC (4件)：
H01J 37/30
, B23K 15/00 508
, B23K 15/02
, H01J 37/18
