特許
J-GLOBAL ID:200903010018534860
消臭処理
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
稲岡 耕作 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-557867
公開番号(公開出願番号):特表2002-519151
出願日: 1999年06月23日
公開日(公表日): 2002年07月02日
要約:
【要約】消臭組成物を収容するスプレー装置から悪臭液滴の源に向ける浮遊悪臭を消すまたは中和する方法であって、スプレー装置で液滴を噴霧する間に二層帯電によって該液滴に少なくとも±1×10-4C/kgの対質量比電荷を有するようなレベルの単極性電荷を与えることを含んでなる方法。
請求項(抜粋):
消臭組成物を収容するスプレー装置から悪臭液滴の源に向ける浮遊悪臭を消すまたは中和する方法であって、スプレー装置で液滴を噴霧する間に二層帯電によって該液滴に少なくとも±1×10-4C/kgの対質量比電荷を有するようなレベルの単極性電荷を与えることを含んでなる方法。
IPC (5件):
A61L 9/01
, A61L 9/14
, A61L 9/22
, B05B 5/047
, B05B 9/04
FI (6件):
A61L 9/01 H
, A61L 9/01 R
, A61L 9/14
, A61L 9/22
, B05B 5/047
, B05B 9/04
Fターム (19件):
4C080AA04
, 4C080AA09
, 4C080BB02
, 4C080CC01
, 4C080HH03
, 4C080JJ01
, 4C080KK06
, 4C080LL04
, 4C080LL13
, 4C080MM14
, 4C080MM19
, 4C080MM24
, 4C080MM31
, 4C080NN12
, 4F033RA02
, 4F033RC03
, 4F034AA10
, 4F034BA01
, 4F034BA17
引用特許: