レプリカモールドの製造方法およびレプリカモールド

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：籾井孝文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-046969
公開番号（公開出願番号）：特開2008-207475
出願日： 2007年02月27日
公開日（公表日）： 2008年09月11日
要約：

【課題】マスターモールドのパターン転写性に優れ、かつ、非常に優れた硬度、透明性、耐熱性および耐薬品性を有するレプリカモールドおよびその簡便・安価な製造方法を提供すること。【解決手段】本発明のレプリカモールドの製造方法は、ポリシランとシリコーン化合物とを含むレプリカモールド用材料を基板に塗布する工程と;所定の微細パターンが形成されたマスターモールドを、塗布されたレプリカモールド用材料に圧接する工程と;マスターモールドとレプリカモールド用材料とを圧接した状態で、基板側からエネルギー線を照射する工程と;マスターモールドを離型する工程と;レプリカモールド用材料に、マスターモールドが圧接されていた側からエネルギー線を照射する工程とを含む。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ポリシランとシリコーン化合物とを含むレプリカモールド用材料を基板に塗布する工程と、所定の微細パターンが形成されたマスターモールドを、該塗布されたレプリカモールド用材料に圧接する工程と、該マスターモールドと該レプリカモールド用材料とを圧接した状態で、該基板側からエネルギー線を照射する工程と、該マスターモールドを離型する工程と、該レプリカモールド用材料に、該マスターモールドが圧接されていた側からエネルギー線を照射する工程とを含むレプリカモールドの製造方法。

IPC (1件)：

B29C 33/38

FI (1件)：

B29C33/38

Fターム (9件)：

4F202AF01 , 4F202AG05 , 4F202AJ03 , 4F202AJ07 , 4F202CA19 , 4F202CA30 , 4F202CB01 , 4F202CD04 , 4F202CD30

引用特許：

審査官引用 (7件)

微細パターンの形成に用いられるモールド用樹脂組成物およびそれからの有機モールドの製作方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2006-500673 出願人：ミヌタ・テクノロジー・カンパニー・リミテッド
特開平2-130738
ナノプリント用スタンパ、及び微細構造転写方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-078460 出願人：株式会社日立製作所

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