特許
J-GLOBAL ID：200903010038880498
電解処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 国則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-275036
公開番号（公開出願番号）：特開平6-101099
出願日： 1992年09月18日
公開日（公表日）： 1994年04月12日
要約：
【要約】【目的】 面倒な電極交換作業を要することなく、常に最適条件下で電解処理を行うことができる電解処理装置を提供する。【構成】 電解溶液を貯溜するための電解槽2と、電解槽2の上部に架設された電極支持杆3と、電極支持杆3に吊設されて電解槽2内に配置された電極5とを備え、電解槽2内の電解溶液中に浸した被処理物に所定の電解処理を施す電解処理装置において、電解槽2内に配置された電極5を上下動させるための上下駆動機構を設けた。また、電解槽2内に配置された電極5を被処理物との対向面と垂直な方向Xに移動させるための進退移動機構を設けた。さらに、被処理物に対する電極5の対向面積を可変させるための電極駆動機構を設けた。
請求項（抜粋）：
電解溶液を貯溜するための電解槽と、前記電解槽の上部に架設された電極支持杆と、前記電極支持杆に吊設されて前記電解槽内に配置された電極とを備え、前記電解槽内の前記電解溶液中に浸した被処理物に所定の電解処理を施す電解処理装置において、前記電解槽内に配置された電極を上下動させるための上下駆動機構を設けたことを特徴とする電解処理装置。
IPC (2件)：
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