特許
J-GLOBAL ID：200903010039808367
基板洗浄用カセットおよび基板ウェット処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐野 章吾 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-160811
公開番号（公開出願番号）：特開平9-323783
出願日： 1996年05月30日
公開日（公表日）： 1997年12月16日
要約：
【要約】【課題】 保持溝の溝幅を可変とすることによって、基板移載時と基板洗浄時に最適な溝幅を得ることができる構造を備えた基板洗浄用カセットを提供する。【解決手段】 基板SBを保持する保持溝3が、カセット本体2に固定的に設けられた固定ガイド7と、カセット本体2に可動なように設けられた可動ガイド8とから構成され、この可動ガイド8は、基板移載位置と基板洗浄位置との間で可動とされ、可動ガイド8が基板移載位置にあるとき、保持溝15の溝幅が拡開されるとともに、可動ガイド8が基板洗浄位置にあるとき、保持溝15の溝幅が縮閉される構成とされている。これにより、基板移載時と基板洗浄時に最適な溝幅を得ることが可能となる。
請求項（抜粋）：
矩形または正方形の基板を洗浄処理する際に使用するものであって、上部が開口した箱状のカセット本体内に、複数枚の基板を等間隔をもって保持する保持溝を備えてなり、これら保持溝は、前記カセット本体が倒伏姿勢となる基板移載時においては基板を水平状態で保持するとともに、前記カセット本体が起立姿勢となる基板洗浄時においては基板を垂直状態で保持する配置構成とされ、前記保持溝は、前記カセット本体に固定的に設けられた固定ガイドと、前記カセット本体に可動なように設けられた可動ガイドとから構成され、この可動ガイドは、基板移載位置と基板洗浄位置との間で可動とされ、前記可動ガイドが前記基板移載位置にあるとき、前記保持溝の溝幅が拡開されるとともに、前記可動ガイドが前記基板洗浄位置にあるとき、前記保持溝の溝幅が縮閉される構成とされていることを特徴とする基板洗浄用カセット。
IPC (8件)：
B65D 85/86
, B08B 3/04
, B08B 11/02
, B65D 85/00
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1333 500
, H01L 21/304 341
, H01L 21/68
B65D 85/38 R
, B08B 3/04 B
, B08B 11/02
, B65D 85/00 F
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1333 500
, H01L 21/304 341 C
, H01L 21/68 N
