特許

J-GLOBAL ID：200903010041493683

メタル残膜判定方法およびメタル残膜判定装置

発明者： 堀江 正浩
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-136786
公開番号（公開出願番号）：特開平11-325840
出願日： 1998年05月19日
公開日（公表日）： 1999年11月26日
要約：

【要約】【課題】 メタルの光学定数を用いることなく簡単な計算で誘電体多層膜上のメタル残膜の有無を判定する。【解決手段】 誘電体多層膜の最上層の膜厚を変化させた際の分光反射率の波長ごとの最大値をグラフMLmaxにて示される最大反射率として求めておく。誘電体多層膜上にメタル残膜が存在する場合、メタル残膜の膜厚が薄くなるにつれて分光反射率はグラフA50からグラフA5へと変化し、メタル残膜が存在しなくなるとグラフA0となることから、判定対象となる多層膜の分光反射率がピークとなるピーク波長を指定波長域で求め、ピーク波長において判定対象の反射率が最大反射率を超える場合には判定対象がメタル残膜を有し、ピーク波長において判定対象の反射率が最大反射率と一致するかそれより小さい場合にはメタル残膜が残存しないと判定する。

請求項（抜粋）：

光学的に透明な誘電体多層膜上のメタルの残膜の有無を判定するメタル残膜判定方法であって、前記誘電体多層膜の膜構造において最上層の膜厚を所定範囲内で変化させた際の前記誘電体多層膜の分光反射率の波長ごとの最大値を最大反射率として準備する工程と、判定対象である多層膜の分光反射率を測定反射率として取得する工程と、予め定められた波長域で前記測定反射率が最大となる波長をピーク波長として求める工程と、前記ピーク波長において前記測定反射率が前記最大反射率より大きい場合に前記判定対象が残膜を有すると判定する工程と、を有することを特徴とするメタル残膜判定方法。

IPC (3件)：

G01B 11/06 ,  H01L 21/304 622 ,  H01L 21/66

FI (3件)：

G01B 11/06 Z ,  H01L 21/304 622 S ,  H01L 21/66 P