特許
J-GLOBAL ID：200903010048985620

洗浄剤組成物

発明者：
▲桑▼山 裕將

▲桑▼山 裕將 について

, 
神谷 誠二

神谷 誠二 について


出願人/特許権者：
ユケン工業株式会社

ユケン工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-403926
公開番号（公開出願番号）：特開2002-173695
出願日： 2000年12月05日
公開日（公表日）： 2002年06月21日
要約：
【要約】【目的】 金属表面に対し、低温領域で、強力な洗浄効能を得る無リンの洗浄剤組成物を提供する。【構成】 成分として、(A)0.25〜25wt%のジメチルアルキルエトキシアミンオキサイドと、0.25〜25wt%のジメチルアルキルエトキシアミンオキサイド以外の非イオン、陰イオン、両性イオンの1種類以上とからなる界面活性剤と、(B)25〜98.5%の苛性アルカリ、炭酸塩、珪酸塩等の1種類以上とからなる無機ビルダーと、(C)1〜50wt%のオキシカルボン酸塩、アミノカルボン酸塩等の1種類以上とからなる有機ビルダーを含む、金属低温用無リンの洗浄剤。
請求項（抜粋）：
洗浄剤として、無機ビルダー、有機ビルダー(キレート剤を含む)、2種類以上の界面活性剤を主成分とする洗浄剤ベースであり、界面活性剤の1つとして、ジメチルアルキルエトキシアミンオキサイド:【化1】を含んでいることを特徴とする金属低温用無リン・洗浄剤組成物。
IPC (2件)：
C11D 1/75 ,  C23G 5/00
FI (2件)：
C11D 1/75 ,  C23G 5/00
Fターム (24件)：
4H003AB27 ,  4H003AC08 ,  4H003AC11 ,  4H003AC16 ,  4H003AC23 ,  4H003AD04 ,  4H003DA09 ,  4H003DB02 ,  4H003EA15 ,  4H003EA16 ,  4H003EB16 ,  4H003FA03 ,  4K053PA02 ,  4K053PA12 ,  4K053QA04 ,  4K053RA27 ,  4K053RA28 ,  4K053RA45 ,  4K053RA46 ,  4K053RA52 ,  4K053RA62 ,  4K053RA63 ,  4K053RA64 ,  4K053SA06
引用特許：
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM