薄膜形成装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高田守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-133458
公開番号（公開出願番号）：特開平5-320893
出願日： 1992年05月26日
公開日（公表日）： 1993年12月07日
要約：

【要約】【目的】スパッタリングによる成膜のときの微小孔などへの成膜において、高い被膜率を得ることを目的とする。【構成】成膜質4内のターゲット1と基板2の間に、基板2の法線方向に対して角度を持ったスリット3を配置し、ターゲット1から弾き飛ばされるスパッタ原子の飛行方向を制御する。

請求項（抜粋）：

薄膜が形成される基板に対向する位置に設置された前記薄膜の原料であるターゲットと、前記基板とターゲットとの間に設置され前記基板の表面から見て垂直な方向に対して傾きを持った方向のスパッタ原子を通過させるスリットとを有し、前記基板及びスリットの少なくとも一方が回転することを特徴とする薄膜形成装置。

IPC (2件)：

C23C 14/34 , C23C 14/54

引用特許：

審査官引用 (3件)

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