特許
J-GLOBAL ID:200903010066787940
粉体処理装置および粉体処理方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
原 謙三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-116727
公開番号(公開出願番号):特開2002-233787
出願日: 2002年04月18日
公開日(公表日): 2002年08月20日
要約:
【要約】【課題】 複数の装置を用いることなく不要な微粉を含まない処理粉体を得ることができる、コンパクトかつ清掃作業が容易な取扱性の良い粉体処理装置を提供する。【解決手段】 本体11内部で原料を一括処理して処理粉体を作製する粉体処理装置10は、原料に機械的エネルギーを加えて処理して処理粉体とする回転片14と、原料および/または処理粉体のうち、所定の粒径以下の微粉のみを選択的に通過させて微粉除去部15を介して本体11の外部に排出する分級ロータ12と、本体11内部の処理粉体を取り出すための取出部17とを備えている。
請求項(抜粋):
本体内部において原料を一括処理して処理粉体とする粉体処理装置であって、原料に機械的エネルギーおよび/または流体エネルギーを加えて、粉砕、形状制御、複合化、表面処理、混合、外添、造粒、融合および乾燥のうち、いずれか又は複数の処理を行って処理粉体とする粉体処理部と、原料および/または処理粉体のうち、所定の粒径以下の微粉のみを選択的に通過させて、この通過した微粉を本体内部から除去する微粉除去部と、本体内部の処理粉体を本体外部に取り出すための取出部とを備えていることを特徴とする粉体処理装置。
IPC (8件):
B02C 23/16
, B01J 2/00
, B02C 19/06
, B02C 21/00
, B02C 23/00
, B02C 23/28
, B07B 7/083
, G03G 9/087
FI (8件):
B02C 23/16
, B01J 2/00 A
, B02C 19/06 B
, B02C 21/00 A
, B02C 23/00 D
, B02C 23/28
, B07B 7/083
, G03G 9/08 381
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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気流式粉砕機の粉砕システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-098783
出願人:ホソカワミクロン株式会社
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衝突式気流粉砕装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-190961
出願人:ホソカワミクロン株式会社
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混和剤複合型球状化セメント及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-112703
出願人:清水建設株式会社
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粉砕刃及びその取付構造
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-259552
出願人:ホソカワミクロン株式会社
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特開昭59-073065
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特開昭59-073065
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閉回路粉砕装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-329784
出願人:ホソカワミクロン株式会社
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