透明導電膜の形成方法及び透明導電膜

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (7件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 渡邊隆 , 青山正和 , 鈴木三義 , 西和哉 , 村山靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-229009
公開番号（公開出願番号）：特開2006-047720
出願日： 2004年08月05日
公開日（公表日）： 2006年02月16日
要約：

【課題】塗膜に大気中にてプラズマを照射することにより、加熱処理や減圧雰囲気を必要とすることなく、低抵抗かつ可視光透過率の高い透明導電膜を形成することができ、さらに、塗工法を用いたことにより量産性及びコスト面で優れている透明導電膜の形成方法及び透明導電膜を提供する。【解決手段】本発明の透明導電膜の形成方法は、導電性塗料を基材6上に塗布して塗膜7を形成し、この塗膜7上に大気圧下にて反応ガスを導入して該反応ガスをプラズマP化させ、このプラズマPを塗膜7に照射して塗膜7を改質することにより、基材6上に透明導電膜9を形成することを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

導電性塗料を基材上に塗布して塗膜を形成し、この塗膜上に大気圧下にて反応ガスを導入して該反応ガスをプラズマ化させ、このプラズマを前記塗膜に照射して該塗膜を改質することにより、前記基材上に透明導電膜を形成することを特徴とする透明導電膜の形成方法。

IPC (4件)：

G09F 9/30 , G02F 1/134 , H01B 5/14 , H01B 13/00

FI (4件)：

G09F9/30 330Z , G02F1/1343 , H01B5/14 A , H01B13/00 503B

Fターム (25件)：

2H092HA03 , 2H092MA02 , 2H092MA10 , 2H092MA35 , 2H092NA27 , 5C094AA33 , 5C094AA44 , 5C094BA27 , 5C094BA31 , 5C094BA34 , 5C094BA43 , 5C094EA05 , 5C094FB01 , 5C094FB02 , 5C094FB12 , 5C094GB10 , 5G307FA01 , 5G307FA02 , 5G307FB01 , 5G307FC03 , 5G307FC09 , 5G323BA01 , 5G323BA02 , 5G323BA04 , 5G323BB06

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開昭60-220507号公報
透明導電膜および表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-182874 出願人：住友大阪セメント株式会社

審査官引用 (5件)

金属酸化物、その薄膜及びこれを製造する方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-143206 出願人：コニカ株式会社
特開平1-296511
高周波高圧電源
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-077245 出願人：株式会社ハイデン研究所

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