特許
J-GLOBAL ID:200903010082596160
荷電粒子線照射系、荷電粒子線露光装置及び半導体デバイス製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
渡部 温
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-155191
公開番号(公開出願番号):特開2000-348662
出願日: 1999年06月02日
公開日(公表日): 2000年12月15日
要約:
【要約】【課題】 結像に寄与しない光軸周辺部の荷電粒子を高加速される前により完全に除去できる荷電粒子線照射系を提供する。【解決手段】 本荷電粒子線照射系は、荷電粒子を放射する光源9、引き出し電極12、及び加速電極11を備える。さらに、未加速の荷電粒子線束の光軸から比較的離れた外周部を遮るトリムアパーチャ13、及び、光軸垂直面内において上記トリムアパーチャの位置を調整する機構10をさらに備える。
請求項(抜粋):
荷電粒子を放射する光源、引き出し電極、加速電極、及び、未加速の荷電粒子線束の光軸から比較的離れた外周部を遮るトリムアパーチャを備える荷電粒子線照射系であって;光軸垂直面内において上記トリムアパーチャの位置を調整する機構をさらに備えることを特徴とする荷電粒子線照射系。
IPC (6件):
H01J 37/305
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
, G21K 5/04
, H01J 37/09
, H01L 21/027
FI (6件):
H01J 37/305 B
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
, G21K 5/04 M
, H01J 37/09 A
, H01L 21/30 541 B
Fターム (11件):
2H097CA16
, 2H097EA01
, 2H097JA01
, 2H097LA10
, 5C033BB01
, 5C034BB01
, 5F056AA17
, 5F056AA22
, 5F056AA27
, 5F056CB08
, 5F056EA04
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