特許
J-GLOBAL ID：200903010083370239
パターン検査方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-181540
公開番号（公開出願番号）：特開平5-006928
出願日： 1991年06月27日
公開日（公表日）： 1993年01月14日
要約：
【要約】【目的】 画像を比較して不一致を欠陥とするパターン検査において、検査の信頼性を高め、パターンの微細欠陥を検出可能とする。【構成】 リニアイメージセンサ5から読み取られたチップ2a,2bの画像パターンは、遅延メモリ7と位置合せ回路12によって位置合せされ、欠陥判定回路13で比較されて欠陥が検出される。不一致検出回路10は2値化回路9a,9bのエッジパターンからシフト量を検出し、状態記憶回路14に記憶させる。位置合せ/感度制御回路12は、前回検査での不一致検出回路10の検出結果と異なる場合、今回シフト量ばかりでなく、前回シフト量あるいは定められたシフト量にも応じて位置合せ回路を制御し、それぞれのシフト量でのエッジパターンの比較によって共通となる不一致画素を欠陥とする。
請求項（抜粋）：
同一パターンとなるように形成された2つの画像を検出し、位置合わせをして比較し、これら画像の不一致となる個所を欠陥と判定するパターン検査において、定められた時間毎にこれら画像の位置ずれ量を検出し、これら画像の位置ずれ補正を前回までの画像の位置ずれ量に従属させることを特徴とするパターン検査方法
IPC (3件)：
H01L 21/66
, G01N 21/27
, G01N 21/88
