特許

J-GLOBAL ID：200903010088484500

被処理材の固定装置

発明者： 沼賀 拓興
出願人/特許権者： 東芝機械株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-090781
公開番号（公開出願番号）：特開平8-288371
出願日： 1995年04月17日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：

【要約】【目的】製作費用が高価で、しかも処理精度に影響を与えるホルダ基板を用いることなく被処理材を移動ステージに固定でき、安価で、しかも、被処理材に対する処理精度の向上を可能とした被処理材の固定装置を提供する。【構成】移動ステージとしてのXYステージ5上に搬入されたホルダ9を、ガイド機構38A,38Bにより支承し、ついで、このガイド機構38A,38Bをガイド移動機構42により下降することにより、ホルダ9をXYステージ5上に下降させる。これにより、ホルダ9に保持されているマスクガラス8が、XYステージ5の上部を構成する台座5A上に配設された複数の位置決め部材としてのZ基準ピン44...に直接載置され、位置決めされる。

請求項（抜粋）：

薄板平面形状物の被処理材を移動ステージ上に固定する被処理材の固定装置であって、前記被処理材の下面を支承する複数の受け部材を有し、前記被処理材を水平状態かつ下面が部分的に露出する状態に保持する被処理材ホルダと、前記移動ステージ上に設けられ前記被処理材ホルダを水平状態に支持すると共に上下動可能なホルダガイド手段と、このホルダガイド手段を下降させることにより前記被処理材を保持した被処理材ホルダを下降させるガイド移動手段と、前記移動ステージ上に設けられ、前記ガイド移動手段によるホルダガイド手段の下降動作に伴って下降する被処理材ホルダに保持された前記被処理材の下面を複数の位置決め部材で受け、前記被処理材を水平に支持する被処理材支持手段と、を具備してなることを特徴とする被処理材の固定装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/68 N ,  H01L 21/68 G ,  H01L 21/30 503 D ,  H01L 21/30 541 L

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭63-186442
  
• 特開昭63-028035
  
• 特開昭63-140532