特許

J-GLOBAL ID：200903010090367960

チタニアをドープした高純度溶融シリカガラスの非多孔質物体および光導波路ファイバの作成方法

発明者： カールトン モーリス トルーズデイル ,  ジェフェリー リン ブラックウェル
出願人/特許権者： コーニング インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 山元 俊仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-247090
公開番号（公開出願番号）：特開平5-246736
出願日： 1992年08月25日
公開日（公表日）： 1993年09月24日
要約：

【要約】【目的】 望ましくない塩素放出を伴わずに金属酸化物ガラスにド-プする方法を提供すること【構成】 蒸発可能なケイ素を含有した化合物および蒸発可能なチタン化合物を含み、ルチル結晶を含んだガス状の混合物を酸化または火炎加水分解して高純度溶融シリカガラスにチタニアをド-プする。チタン・イソプロポキシド、チタン・エトキシド、チタン-2-エチルヘキシルオキシド、チタン・シイクロペンチルオキシド、およびチタン・アミド、あるいはそれらの組合せが使用可能なチタンを含有した化合物を構成する。

請求項（抜粋）：

チタニアをド-プした高純度溶融シリカの非多孔質物体を作成する方法において、(a)酸化を伴う熱分解または火炎加水分解によってSiO2に変換され得るケイ素を含有した蒸気状の化合物と、酸化を伴う熱分解または火炎加水分解によってTiO2に変換され得るチタンを含有した蒸気状の化合物を含んだガス流を作成し、(b)前記ガス流を燃焼バ-ナの炎中に通してTiO2をド-プされかつルチルおよびアナタ-ゼのサブマイクロスコ-ピック結晶を含み、ルチルを優位結晶層とした溶融SiO2の無定形粒子を形成し、(c)前記無定形粒子を支持体上に沈積させ、(d)前記沈積と実質的に同時にまたはその後で、前記無定形粒子の沈積物をコンソリデ-トさせて非多孔質物体となす工程を含み、前記チタンを含んだ蒸気状の化合物として、チタン・イソプロポキシド、チタン・エトキシド、チタン-2-エチルヘキシルオキシド、チタン・シイクロペンチルオキシド、およびチタン・アミド、あるいはそれらの組合せよりなるグル-プから選択されたハロゲン化物を含まずチタンを含有した化合物を用い、前記多孔質物体の作成時に前記チタンを含有した化合物からハロゲン化物を含んだ蒸気が全く放出されないことを特徴とするチタニアをド-プした高純度溶融シリカの非多孔質物体を作成する方法。

IPC (2件)：

C03C 13/04 ,  G02B 6/00 356

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭54-142317
  
• 特開昭56-164023
  
• 特開平1-230444
  
• 特開昭56-140038