特許
J-GLOBAL ID:200903010093679327

投影露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-178907
公開番号(公開出願番号):特開平7-037781
出願日: 1993年07月20日
公開日(公表日): 1995年02月07日
要約:
【要約】【目的】 複数のホールパターンを高解像度、大焦点深度で投影露光する。【構成】 投影光学系PL中のフーリエ変換面FTP、又はその近傍に、投影光学系PLの光軸AXを中心とする内半径r1 、外半径r2 の輪帯透過部FB内に分布する照明光と、その内側、及び外側の透過部FA、FC内に分布する照明光との間にπ [rad]の位相差を与える瞳フィルターPFを配置し、かつ投影光学系PLの瞳面の半径をr3 とすると、内半径r1 、外半径r2 を、0.95×0.25×r3 ≦r1 ≦1.05×0.25×r30.95×0.92×r3 ≦r2 ≦1.05×0.92×r3なる範囲内に定める。【効果】 十分な焦点深度が得られるとともに、複数のホールパターンの分離能力(解像度)が高く、かつリンギングも小さくできる。
請求項(抜粋):
微細パターンが形成されたマスクを露光用の照明光で照射する照明手段と、前記マスクのパターンから発生した光を入射して前記パターンの像を感応基板上に結像投影する投影光学系とを備えた投影露光装置において、前記マスクと前記感応基板との間の結像光路内のフーリエ変換面、又はその近傍に、該フーリエ変換面、又はその近傍面上の前記投影光学系の光軸を中心とする内半径r1 、外半径r2 の輪帯状領域内に分布する照明光と、該輪帯状領域の内側、及び外側に分布する照明光との間に(2m+1)π [rad](但し、mは整数)の位相差を与える位相板を配置し、かつ前記投影光学系の瞳面の半径をr3(r3 >r2 >r1 )とすると、前記内半径r1 、外半径r2 を、0.95×0.25×r3 ≦r1 ≦1.05×0.25×r30.95×0.92×r3 ≦r2 ≦1.05×0.92×r3なる範囲内に定めたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (4件):
H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/207 ,  G06K 9/78

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