特許
J-GLOBAL ID：200903010098869213
基板および基板の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-202343
公開番号（公開出願番号）：特開2000-033698
出願日： 1998年07月16日
公開日（公表日）： 2000年02月02日
要約：
【要約】【課題】 パターン形成時に、乾燥前の流動体が広がりすぎず乾燥後にパターンが分断されない、インクジェット方式によるパターン形成に適する基板の提供。【解決手段】 基台(100)のパターン形成面にシランカップリング剤を塗布しシランカップリング膜(101)を形成する工程、パターンに合わせたマスク(102)をシランカップリング膜(101)上にかける工程、およびシランカップリング膜(101)にマスク(102)の上からエネルギーを与えて活性化させ極性基を生じさせる活性化工程、を備える。シランカップリング膜(101)のうちマスク(102)がかけられなかった領域には、水酸基、カルボキシル基、アミノ基またはアミノカルボニル基等の極性基が生じ、親水性を示すようになる。マスク(102)がかけられていた領域は疎水性を備える。この基板はインクジェット方式によってパターンを形成するのに適するユニバーサル基板としての機能を備える。
請求項（抜粋）：
基台上にシランカップリング剤によりシランカップリング膜が形成されており、前記シランカップリング膜上でパターン化された親水性領域は、水酸基、カルボキシル基、アミノ基またはアミノカルボニル基等の極性基を備えていることを特徴とする基板。
IPC (3件)：
B41J 2/045
, B41J 2/055
, B41J 2/16
B41J 3/04 103 A
, B41J 3/04 103 H
2C057AF93
, 2C057AG44
, 2C057AP02
, 2C057AP52
, 2C057AP53
, 2C057AP54
, 2C057AP57
, 2C057AP59
, 2C057BA03
, 2C057BA14
