可動ステージ装置、該ステージ装置を搭載したマイクロリソグラフィ装置、及び流体冷却システム

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡部正夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-271252
公開番号（公開出願番号）：特開平8-233964
出願日： 1995年10月19日
公開日（公表日）： 1996年09月13日
要約：

【要約】【課題】精密な運動を行い、マイクロリソグラフ装置において、ウエーハを接合させるためのXYステージを提供する。【解決手段】ウエーハを支持するメインステージ22が、X-Y平面において第1の直線方向に磁気的に駆動される運動可能なビーム20を跨ぐ。メインステージとは機械的に独立した従動ステージも、第1の直線方向(X方向)に移動し、その運動は制御システムによって、メインステージのX方向の運動と電子的に同期される。電磁駆動モータが、従動ステージに設けられた磁気トラック16a、16bを含み、これら磁気トラックはメインステージの縁部に設けられたモータコイルと協働して、X方向に直交する第2の直線方向(Y方向)に、メインステージを動かす。ビームから磁気トラックの重量を取り除くことにより、メインステージが軽量化される。

請求項（抜粋）：

ステージ機構であって、ベースと、前記ベースに設けられた少なくとも1つのガイドと、前記ガイドに摺動可能に接触する運動可能なビームと、前記ビームに隣接すると共に、前記ビームに沿って運動可能なステージと、前記ガイドに枢動可能に接触すると共に、前記ステージに隣接して設けられる従動ステージと、前記従動ステージ上の第1のモータの一部に対して相対的に前記ステージを動かすように、前記ステージに設けられた第1のモータの一部と、前記従動ステージに設けられた第2のモータの一部とを備え、該第2のモータが前記従動ステージを該第2のモータの一部に対して相対的に動かすと共に、前記第1のモータに対してある角度をなして配列されていることを特徴とするステージ機構。

IPC (3件)：

G12B 5/00 , G02B 21/26 , H01L 21/027

FI (3件)：

G12B 5/00 T , G02B 21/26 , H01L 21/30 503 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭63-162139
特開昭63-162139
特開平4-176529

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