特許
J-GLOBAL ID:200903010112546473

基板搬送システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡邉 勇 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-353608
公開番号(公開出願番号):特開平6-181249
出願日: 1992年12月14日
公開日(公表日): 1994年06月28日
要約:
【要約】【目的】 半導体製造工程、液晶製造工程等に利用可能な、密閉空間中を基板の搬送を行い、プロセスに応じて最適な基板の処理を行う処理システムを提供する。【構成】 密閉空間中を基板の搬送を行い、且つ複数の基板処理室間を該基板を移動させ、該基板に処理を行う基板処理システムにおいて、前記密閉空間中の雰囲気を真空と清浄な不活性ガスとを切換える手段を備えたことを特徴とする基板搬送システム。
請求項(抜粋):
密閉空間中を基板の搬送を行い、且つ複数の基板処理室間を該基板を移動させ、該基板に処理を行う基板処理システムにおいて、前記密閉空間中の雰囲気を真空と清浄な不活性ガスとを切換える手段を備えたことを特徴とする基板搬送システム。
IPC (2件):
H01L 21/68 ,  B65G 49/00
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開平3-044058

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