特許
J-GLOBAL ID：200903010113168740
レジスト組成物及びそれを用いるパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青木 朗 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-063341
公開番号（公開出願番号）：特開平5-265210
出願日： 1992年03月19日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】【目的】 酸素プラズマ耐性が高く、高感度で二層レジストとして機能するレジスト組成物及びそれを用いて高生産性でレジストパターンを形成する方法を提供する。【構成】 炭素数1〜6のアルコキシシリル基を有する芳香族化合物からなる架橋剤、酸発生剤、水酸基を有するポリマー及び溶媒から成るレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
炭素数1〜6のアルコキシシリル基を有する芳香族化合物からなる架橋剤、酸発生剤、水酸基を有するポリマー及び溶媒から成るレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/038 505
, G03F 7/004 503
, G03F 7/075 501
, G03F 7/075 511
, H01L 21/027
