特許

J-GLOBAL ID：200903010121765820

研磨用組成物

発明者： 太田 勇夫 ,  西村 透 ,  渡部 淑胤 ,  鹿島 吉恭 ,  江間 希代巳 ,  大森 豊
出願人/特許権者： 日産化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-188562
公開番号（公開出願番号）：特開2001-011433
出願日： 1999年07月02日
公開日（公表日）： 2001年01月16日
要約：

【要約】【課題】 研磨特性の優れた研磨用組成物を提供すること。【解決手段】 研磨対象物をアルミニウムディスク、シリカを表面に有する基板のシリカ、並びに半導体ウェハーとする、シリカゾルを含む研磨用組成物において、シリカゾルが、平均粒子径10〜120nmの球状コロイダルシリカ粒子とこの球状コロイダルシリカ粒子を接合する金属酸化物含有シリカからなり、球状コロイダルシリカ粒子が一平面内のみにつながった数珠状コロイダルシリカ粒子が水中に分散した安定なシリカゾルであること、及び該数珠状コロイダルシリカ粒子を、0.5〜50重量%のSiO2 濃度に有することを特徴とする研磨用組成物。

請求項（抜粋）：

シリカゾルを含むアルミニウムディスクの研磨用組成物において、シリカゾルが、平均粒子径10〜120nmの球状コロイダルシリカ粒子とこの球状コロイダルシリカ粒子を接合する金属酸化物含有シリカからなり、動的光散乱法による測定粒子径(D1nm)と球状コロイダルシリカ粒子の平均粒子径(窒素吸着法による測定粒子径/D2nm)の比D1/D2が3以上であって、このD1は50〜800nmであり、球状コロイダルシリカ粒子が一平面内のみにつながった数珠状コロイダルシリカ粒子が水中に分散した安定なシリカゾルであること、及び該数珠状コロイダルシリカ粒子を、0.5〜50重量%のSiO2 濃度に有することを特徴とするアルミニウムディスクの研磨用組成物。

IPC (4件)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  H01L 21/304 622

FI (4件)：

C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z ,  B24B 37/00 H ,  H01L 21/304 622 D

Fターム (10件)：

3C058AA07 ,  3C058CA01 ,  3C058CA04 ,  3C058CA05 ,  3C058CA06 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17