特許
J-GLOBAL ID：200903010132013498
ナノ構造の成形体及び層並びに安定な水溶性前駆物質を用いたその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三枝 英二 (外8名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-543519
公開番号（公開出願番号）：特表2002-511509
出願日： 1999年04月08日
公開日（公表日）： 2002年04月16日
要約：
【要約】本発明は、ナノ構造の成形体及び層の製造用の組成物を調製するための方法に関し、該方法は、シリコン並びに周期表主族及び遷移族金属より選ばれた元素の化合物の水性及び/又はアルコール性ゾルを、加水分解性アルコキシ基を有し少なくとも1つの有機的に修飾されたアルコキシシラン又はこれに由来のプレ縮合物を含む化学種と、該化学種の(更なる)加水分解を導く条件下で接触させること、並びに、次に必要な場合には生じたアルコール及び初めから存在したアルコールを除去することを含む。本発明は、充分なアルコールが除去され、該組成物中の残量が20重量%を超えないことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
ナノ構造の成形体及び層を製造するための組成物を調製するプロセスであって、シリコン並びに周期表の主族及び遷移族金属より選ばれた元素の化合物の水性及び/又はアルコール性ゾルと、加水分解性アルコキシ基を有し少なくとも1つの有機的に修飾されたアルコキシシラン又はこれに由来のプレ縮合物からなる化学種とを、該化学種の(更なる)加水分解を導く条件下で接触させること、並びに次に生じたアルコール及び必要な場合には初めから存在したアルコールを除去することを含み、該組成物中の残留アルコール含量が重量で20%以下となるような量のアルコールを除去することを特徴とするプロセス。
IPC (5件)：
C08G 77/14
, C08G 77/20
, C08G 77/58
, C08K 3/36
, C08L 83/04
C08G 77/14
, C08G 77/20
, C08G 77/58
, C08K 3/36
, C08L 83/04
4J002CP031
, 4J002CP091
, 4J002CP141
, 4J002CP161
, 4J002CP201
, 4J002DE027
, 4J002DE096
, 4J002DE106
, 4J002DE136
, 4J002DE146
, 4J002DJ016
, 4J002EC037
, 4J002FD206
, 4J002FD207
, 4J002GH01
, 4J035BA01
, 4J035BA11
, 4J035CA072
, 4J035CA082
, 4J035CA092
, 4J035CA132
, 4J035CA142
, 4J035CA192
, 4J035CA212
, 4J035CA262
, 4J035EA01
, 4J035HA05
, 4J035LA05
, 4J035LB01
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (15件)
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