特許

J-GLOBAL ID：200903010140135799

処理装置

発明者： 吉岡 和敏
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-142737
公開番号（公開出願番号）：特開平10-335418
出願日： 1997年05月30日
公開日（公表日）： 1998年12月18日
要約：

【要約】【課題】 ウエハに対してレジスト塗布や現像等を行う装置において、液処理系領域の密閉性を高めて他の領域から液処理系領域への塵埃等の浸入を阻止し、被処理基板表面に異物が付着することに起因する歩留りの低下を防止する。【解決手段】 カセットステーション10及び露光装置用のインターフェース部12との間でのウエハWの受け渡し、及び熱処理系を含むオーブン型処理ユニット群33に対するウエハWの出し入れを行う第1の搬送ユニット31と、レジスト塗布ユニット(COT)及び現像ユニット(DEV)に対してウエハWの出し入れを行う第2の搬送ユニット32とを互いに分離して配置し、且つ第1の搬送ユニット31と第2の搬送ユニット32との間でのウエハWの受け渡しは熱処理系のオーブン型処理ユニット群33のなかのイクステンションユニット(EXT)を通じて行うように構成する。

請求項（抜粋）：

被処理基板を処理する複数の第1の処理ユニットと、被処理基板を処理する第2の処理ユニットと、前記各第1の処理ユニットに対して前記被処理基板の出し入れを行う第1の搬送ユニットと、外部との間で被処理基板の受け渡しを行う外部受渡部と、前記外部受渡部に対して密閉され、且つ前記各第1の処理ユニットを挟んで前記第1の搬送ユニットと対向する位置に設けられ、前記各第1の処理ユニットのうちの一部及び前記第2の処理ユニットに対して前記被処理基板の出し入れを行う第2の搬送ユニットとを具備することを特徴とする処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/68 A ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 502 J

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-170204   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-065218   出願人：大日本スクリーン製造株式会社