光学素子の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大塚康徳 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-001271
公開番号（公開出願番号）：特開平9-195034
出願日： 1996年01月09日
公開日（公表日）： 1997年07月29日
要約：

【要約】【課題】表面粗さの大きい基板を用いた場合でも超高反射鏡を製造することができる光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】基板上に1層以上の薄膜をコーティングすることにより光学素子を製造する方法であって、基板及び1層以上の薄膜の内、それらの少なくとも1つの表面をエッチングする工程と、このエッチングした表面上に次の薄膜層をコーティングする工程とを具備する。

請求項（抜粋）：

基板上に1層以上の薄膜をコーティングすることにより光学素子を製造する方法であって、前記基板及び前記1層以上の薄膜の内、それらの少なくとも1つの表面をエッチングする工程と、前記エッチングした表面上に次の薄膜層をコーティングする工程とを具備することを特徴とする光学素子の製造方法。

IPC (4件)：

C23C 14/02 , B29D 11/00 , C23F 4/00 , G02B 5/08

FI (4件)：

C23C 14/02 Z , B29D 11/00 , C23F 4/00 C , G02B 5/08 C

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