特許
J-GLOBAL ID:200903010170549806
金属膜研磨用パッド
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
森 哲也 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-159840
公開番号(公開出願番号):特開2000-349054
出願日: 1999年06月07日
公開日(公表日): 2000年12月15日
要約:
【要約】【課題】CMP法用の研磨パッドにおいて、金属膜の研磨の際に研磨パッドの研磨面に着色が生じないようにする。【解決手段】吸水率が1.0vol%未満である疎水性プラスチック製の研磨パッドを使用する。
請求項(抜粋):
ケミカルメカニカル研磨法による金属膜研磨用の研磨パッドにおいて、少なくとも研磨面部が疎水性プラスチックで形成されていることを特徴とする研磨パッド。
IPC (3件):
H01L 21/304 622
, H01L 21/304 621
, B24B 37/00
FI (3件):
H01L 21/304 622 F
, H01L 21/304 621 D
, B24B 37/00 C
Fターム (5件):
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058CB02
, 3C058DA12
, 3C058DA17
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