特許
J-GLOBAL ID：200903010170829710

ポジ型レジスト組成物

発明者：
西山 文之

西山 文之 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-094330
公開番号（公開出願番号）：特開2004-302079
出願日： 2003年03月31日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：
【課題】線幅変動が顕著に抑制されたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】特定の構造の酸分解性基を含有する構造単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂(A)及び/又は別の特定の構造の酸分解性基を含有する構造単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂(B)並びに活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(a)下記一般式(I)、(II)及び(III)で示される構造単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂(A)、 下記一般式(I’)、(II’)及び(IV)で示される構造単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂(B)、及び (b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (2件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (15件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • ポジ型フォトレジスト組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-112875   出願人：富士写真フイルム株式会社
  • レジスト組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-015401   出願人：和光純薬工業株式会社, 住友化学工業株式会社

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