特許
J-GLOBAL ID:200903010183507665

立体造形装置および立体造形方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 櫛渕 昌之 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-014386
公開番号(公開出願番号):特開2002-210834
出願日: 2001年01月23日
公開日(公表日): 2002年07月31日
要約:
【要約】【課題】 液晶マスクを用いた、造形精度を低下させることのない立体造形装置および立体造形方法を提供する。【解決課題】 光造形に関するデータに応じて面状パターンが制御される液晶マスク9を備え、このマスク越しに光硬化性樹脂の未硬化樹脂層を面露光し、この面露光操作を繰り返すことにより光造形する立体造形装置において、液晶マスク9をマスク面と平行方向に微少変位させる変位機構55A〜55Dを設けた。
請求項(抜粋):
立体造形に関するデータに応じて面状に設定された硬化媒体により材料を硬化し、この硬化した層の積層を繰り返すことにより立体物を造形する立体造形装置において、上記材料表面上における上記硬化媒体か上記材料の少なくとも一方を互いに平行移動させる変位手段を備えたことを特徴とする立体造形装置。
Fターム (11件):
4F213AA44 ,  4F213WA25 ,  4F213WA97 ,  4F213WB01 ,  4F213WL03 ,  4F213WL12 ,  4F213WL43 ,  4F213WL79 ,  4F213WL83 ,  4F213WL85 ,  4F213WL92
引用特許:
審査官引用 (4件)
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