特許
J-GLOBAL ID:200903010189881313
磁気記録媒体の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
阿仁屋 節雄 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-075495
公開番号(公開出願番号):特開平8-273155
出願日: 1995年03月31日
公開日(公表日): 1996年10月18日
要約:
【要約】【目的】 高保磁力化、低浮上走行化及び高CSS耐久性をより容易に実現できる磁気記録媒体を製造できる磁気記録媒体の製造方法を得る。【構成】 基板1上に、順次、下地層2,3、磁性層4、中間層5、保護層6及び潤滑層7を形成する工程を有し、保護層6を形成する前に、該保護層6が形成される中間層5の表面を酸化させて不動態化する不動態化工程と、上記不動態化された中間層5の表面を洗浄液によって洗浄する洗浄工程とを設けた。
請求項(抜粋):
基板上に、少なくとも下地層、磁性層、中間層及び保護層を順次形成する工程を有する磁気記録媒体の製造方法において、前記保護層を形成する前に、該保護層が形成される中間層の表面を酸化させて不動態化する不動態化工程と、前記不動態化された中間層の表面を洗浄液によって洗浄する洗浄工程とを有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (3件):
G11B 5/84
, G11B 5/72
, G11B 5/82
FI (4件):
G11B 5/84 B
, G11B 5/84 Z
, G11B 5/72
, G11B 5/82
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