特許

J-GLOBAL ID：200903010198730786

結像特性測定方法及び結像特性測定装置、露光方法、露光装置、及びデバイスの製造方法

発明者： 竹内 裕一郎
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-183797
公開番号（公開出願番号）：特開2002-005787
出願日： 2000年06月19日
公開日（公表日）： 2002年01月09日
要約：

【要約】【課題】 光学系の結像特性を簡易な構成で精度良く測定することができる結像特性測定方法及び結像特性測定装置、露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法を提供する。【解決手段】 投影光学系PLの開口数を測定する結像特性測定装置Sは、露光光ELが照明されることにより、投影光学系PLに対してそれぞれ異なる入射角度θを有する回折光DLを発生するマスクMと、投影光学系PLを通過した回折光DLの光量を検出可能な検出器Aと、検出器Aで検出された入射角度θが異なるそれぞれの回折光DLの光量変化に基づいて、この投影光学系PLの開口数NAを算出する演算装置CONTとを備えている。

請求項（抜粋）：

光学系の結像特性を測定する結像特性測定方法において、第1の入射角度で第1の光を前記光学系に入射させ、前記光学系を通過した前記第1の光の光情報を検出し、前記第1の入射角度とは異なる入射角度で第2の光を前記光学系に入射させ、前記光学系を通過した前記第2の光の光情報を検出し、前記第1の光の光情報と前記第2の光の光情報とに基づいて、前記結像特性として前記光学系の開口数を算出することを特徴とする結像特性測定方法。

IPC (3件)：

G01M 11/02 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G01M 11/02 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (7件)：

2G086HH05 ,  2G086HH07 ,  5F046AA25 ,  5F046CB17 ,  5F046DA12 ,  5F046DB05 ,  5F046DB10