特許
J-GLOBAL ID:200903010221635591
ポリアリーレンスルフィド製造用機器およびそれを用いたポリアリーレンスルフィドの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
渡辺 喜平 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-094523
公開番号(公開出願番号):特開平9-278888
出願日: 1996年04月16日
公開日(公表日): 1997年10月28日
要約:
【要約】【課題】 耐腐食性に優れたポリアリーレンスルフィド製造用機器、およびそれを用いた、効率がよく安価なポリアリーレンスルフィドの製造方法を提供する。【解決手段】 液体材料と接触する部分の主要部を、下記特性(A)および/または特性(B)を有するものとする。特性(A):非プロトン性有機溶媒中の水硫化リチウムの濃度が3.6mol/kgの溶液中に、30日毎にこの溶液を更新して、130°C-90日間浸漬した後の表面の腐食度が3μm/y以下特性(B):非プロトン性有機溶媒中の塩化リチウムの濃度が3.6mol/kgの溶液中に、30日毎にこの溶液を更新して、260°C-90日間浸漬した後の表面の腐食度が10μm/y以下
請求項(抜粋):
少なくとも、ポリアリーレンスルフィドを製造するために用いられる液体材料と接触する部分の主要部が、二相ステンレス、または下記特性(A)および/または特性(B)を有する、ニッケルおよびクロムを必須成分として含有する合金からなることを特徴とするポリアリーレンスルフィド製造用機器。特性(A):非プロトン性有機溶媒中の水硫化リチウムの濃度が3.6mol/kgの溶液中に、30日毎にこの溶液を更新して、130°C-90日間浸漬した後の表面の腐食度が3μm/y以下特性(B):非プロトン性有機溶媒中の塩化リチウムの濃度が3.6mol/kgの溶液中に、30日毎にこの溶液を更新して、260°C-90日間浸漬した後の表面の腐食度が10μm/y以下
IPC (4件):
C08G 75/02 NTX
, C08G 85/00 NVC
, C22C 38/00 302
, C22C 38/52
FI (4件):
C08G 75/02 NTX
, C08G 85/00 NVC
, C22C 38/00 302 H
, C22C 38/52
引用特許:
審査官引用 (9件)
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特開平1-213338
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特開昭62-180043
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特開昭54-047786
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ポリアリーレンスルフィドの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-098182
出願人:出光石油化学株式会社
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特開昭55-082106
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特開平1-213338
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特開昭62-180043
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特開昭54-047786
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特開昭55-082106
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