特許
J-GLOBAL ID：200903010239798293
粒径のそろったシリカ超微粒子、その製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-178013
公開番号（公開出願番号）：特開2003-002632
出願日： 2001年06月13日
公開日（公表日）： 2003年01月08日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】平均粒径が1nm〜100nmの範囲内で、その粒径分布が単分散型のシリカ超微粒子を提供する。【解決手段】次の(a)、(b)及び(c)の工程により、シリカ超微粒子を製造する。工程(a):イソシアナートと反応できる官能基を分枝末端にもつデンドリマーと、イソシアナート基をもつアルコキシシラン(反応試薬)とを反応させて、「分枝末端にアルコキシシリル基をもつデンドリマー」(シリル化デンドリマー)とする。工程(b):「分枝末端にアルコキシシリル基をもつデンドリマー」(シリル化デンドリマー)の分枝末端(表層)のアルコキシシランを加水分解し、脱水縮合し、シリカ超微粒子前駆体とする。工程(c):前記前駆体に、新たにアルコキシシランを加えて反応させ、その表層にシリカ層を積層させる。
請求項（抜粋）：
次の(b)及び(c)の工程を含んでなるシリカ超微粒子の製造法:(b)「分枝末端にアルコキシシリル基をもつデンドリマー」(シリル化デンドリマー)の分枝末端のアルコキシシランを加水分解し、脱水縮合し、シリカ超微粒子前駆体とする工程;(c)前記前駆体に、新たにアルコキシシランを加えて反応させ、その表層にシリカ層を積層させる工程。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C01B 33/18 Z
, C08G 85/00
4G072AA25
, 4G072BB05
, 4G072DD06
, 4G072DD07
, 4G072GG01
, 4G072GG03
, 4G072HH30
, 4G072MM01
, 4G072RR05
, 4G072TT01
, 4G072TT02
, 4G072UU01
, 4G072UU15
, 4G072UU30
, 4J031CA07
, 4J031CD26
