リードフレームの部分めっき方法およびその方法により作製されたリードフレーム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小西淳美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-211357
公開番号（公開出願番号）：特開平9-045836
出願日： 1995年07月28日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：

【要約】【課題】めっき液への耐性を備えた感光性のレジストを用いてリードフレームの所定の領域のみをめっき液に露出した状態にマスキングし、めっきを施すリードフレームの部分めっき方法において、電着レジスト現像の際のレジスト残渣によるめっき皮膜と下地金属との密着性劣化の無い、部分めっき方法を提供する。【解決手段】リードフレームの少なくともインナーリード部にめっき液への耐性を備えた感光性のレジストを用いてリードフレームの所定の領域のみをめっき液に露出した状態にしてめっきを施すリードフレームの部分めっき方法であって、順に、(A)レジストをリードフレームの表面に被膜して、露光、現像処理を行い、リードフレームのめっきする所定の領域のみを露出させる工程と、(B)露出されたリードフレームのめっきする所定の領域を、酸素含有空気中で紫外線を照射し、洗浄する工程と、(C)リードフレームのめっきする所定の領域に貴金属めっき処理を施す工程とを有す。

請求項（抜粋）：

リードフレームの少なくともインナーリード部に貴金属めっきを施すために、めっき液への耐性を備えた感光性のレジストを用いてリードフレームの所定の領域のみをめっき液に露出した状態にしてめっきを施すリードフレームの部分めっき方法であって、順に、(A)レジストをリードフレームの表面に被膜して、露光、現像処理を行い、リードフレームのめっきする所定の領域のみを露出させる工程と、(B)露出されたリードフレームのめっきする所定の領域を、酸素含有空気中で紫外線を照射し、洗浄する工程と、(C)リードフレームのめっきする所定の領域に貴金属めっき処理を施す工程とを有することを特徴とするリードフレームの部分めっき方法。

IPC (3件)：

H01L 23/50 , C25D 5/02 , C25D 5/34

FI (3件)：

H01L 23/50 D , C25D 5/02 H , C25D 5/34

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平1-261852
特開昭63-128715
特開昭63-244660

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