特許
J-GLOBAL ID:200903010244619933

フォーカス評価用レチクルおよびフォーカス評価方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 船橋 國則
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-078486
公開番号(公開出願番号):特開平9-270379
出願日: 1996年04月01日
公開日(公表日): 1997年10月14日
要約:
【要約】【課題】 縮小投影露光装置のフォーカス位置評価を短時間で行えるようにしたフォーカス評価用レチクル、及びフォーカス評価方法の提供が望まれている。【解決手段】 縮小投影露光装置のフォーカス位置評価のために用いられる評価用レチクル20である。評価用レチクル20上には評価用パターン22が形成されている。評価用パターン22は、縮小投影露光装置の解像限界幅より細い幅のパターンと、解像限界幅より太い複数種の幅のパターン群とを有している。パターンの各間隔は、縮小投影露光装置の解像限界を越える幅である。
請求項(抜粋):
縮小投影露光装置のフォーカス位置評価のために用いられる評価用レチクルであって、該評価用レチクル上に評価用パターンを形成してなり、該評価用パターンが、前記縮小投影露光装置の解像限界幅より細い幅のパターンと、解像限界幅より太い複数種の幅のパターン群とを有し、前記パターンの各間隔が、前記縮小投影露光装置の解像限界を越える幅であることを特徴とするフォーカス評価用レチクル。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00
FI (3件):
H01L 21/30 515 F ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H

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