特許
J-GLOBAL ID：200903010249488284
めっき残留応力の制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-107210
公開番号（公開出願番号）：特開平9-291395
出願日： 1996年04月26日
公開日（公表日）： 1997年11月11日
要約：
【要約】【課題】めっき残留応力の大きさを制御するのに有利なめっき残留応力の制御方法を提供すること。【解決手段】対象物4の被めっき面4hにめっき処理を施してめっき層を形成する方法である。対象物4に歪を付加した状態でめっき処理を行い、めっき処理後に歪を解放し、これによりめっき層におけるめっき残留応力を制御する。
請求項（抜粋）：
対象物の被めっき面にめっき処理を施してめっき層を形成する方法において、前記対象物に歪を付加した状態で前記めっき処理を行い、前記めっき処理後に前記歪を解放し、前記めっき層におけるめっき残留応力を制御することを特徴とするめっき残留応力の制御方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C25D 7/00 Z
, C25D 21/12 Z
