特許
J-GLOBAL ID：200903010261768667
荷電ビーム描画装置のマーク位置検出方法及び描画位置補正方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-058598
公開番号（公開出願番号）：特開平8-255743
出願日： 1995年03月17日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：
【要約】【目的】 電荷ビーム描画装置におけるマーク位置検出精度を向上させると共に、基板の自重たわみに起因する描画位置ずれを正しく補正する。【構成】 マーク位置検出方法においては、荷電ビーム14を基板12に対して照射する場合に、マーク13を含む二次元的な走査範囲21を第1の走査方向にスポット17が互いに重複しないように、かつそれ以降の走査方向毎の走査開始位置を微小距離b/Mづつずらせている。そして、各位置における荷電ビームの反射電荷量Qの統計量からマーク位置を算出する。また、描画位置補正方法においては、基板の自重たわみに起因する補正係数kを実際の描画領域21を限定して算出している。
請求項（抜粋）：
レジストが塗布された基板の表面に対して荷電ビームを照射して所定のパターンを描く荷電ビーム描画装置の前記基板上に予め描かれたマーク位置を検出するマーク位置検出方法において、前記荷電ビームの前記基板上のスポット形状を所定の形状に設定し、前記基板上に前記マークを含む走査範囲を設定し、前記走査範囲における第1の走査方向に前記スポットが互いに重複しないように順番に照射位置を移動させながら前記荷電ビームを照射していき、かつ一つの走査が終了する毎に照射位置を、前記第1の走査方向に略垂直である第2の走査方向へ前記スポットが互いに重複しないようにずらせていき、さらに、前記各第2の走査方向位置における前記第1の走査方向の各走査の開始位置を前記スポット形状より小さい距離だけ順次移動させて前記荷電ビームを照射していき、前記走査範囲の各位置における荷電ビームの反射電荷量を検出し、この検出された各位置の反射電荷量の統計量から前記マーク位置を算出することを特徴とする荷電ビーム描画装置のマーク位置検出方法。
FI (3件)：
H01L 21/30 541 J
, H01L 21/30 525 Z
, H01L 21/30 541 K
