特許

J-GLOBAL ID：200903010265769579

垂直磁化膜及び磁気記録媒体

発明者： 橋本 進 ,  柚須 圭一郎 ,  猪俣 浩一郎
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-045868
公開番号（公開出願番号）：特開平5-067322
出願日： 1992年03月04日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：

【要約】【構成】 イオンビームスパッタリング法などの薄膜形成技術を用いて、10オングストローム程度の磁性層Coと貴金属層Ptを、膜厚比tCo/tPtを0.6以上で、5層以内、積層膜の膜厚を50オングストローム未満とすることで良好な垂直磁化膜が得られる。【効果】 従来この様な人工格子膜ではCoの膜厚が厚いと垂直磁化膜が得られなかったが、本発明によればtCo/tPt≧0.6というCoの膜厚が厚い領域でも垂直磁化膜を得ることができる。

請求項（抜粋）：

磁性層と貴金属層とが積層された状態を(M/N)nMは磁性体,Nは貴金属,nは積層数で表したとき、1≦n≦5かつ(M/N)n の膜厚が50オングストローム未満であることを特徴とする垂直磁化膜。

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平2-235215
  
• 特開平3-235237
  
• 特開平3-252942
  
• 特開平4-274039
  
• 特開平4-167406