特許
J-GLOBAL ID:200903010268369318
有機EL装置の製造方法、および電子機器
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
上柳 雅誉
, 藤綱 英吉
, 須澤 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-341591
公開番号(公開出願番号):特開2006-155978
出願日: 2004年11月26日
公開日(公表日): 2006年06月15日
要約:
【課題】 発光層の界面を安定化させ、これによって発光寿命に優れた有機EL装置とその製造方法、並びに電子機器を提供する。 【解決手段】 ウェットプロセスで形成した発光層5R、5G、5Bと陽極3および陰極4の間に、ドライプロセスで形成した金属酸化物薄膜層6および7を備えてなる有機EL装置10である。各色発光層5R、5G、5Bは液滴吐出法により並列に配置されている。また、金属酸化物薄膜層6および7は真空蒸着法で一括に形成されている。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
対向する陽極と陰極との間に、少なくとも有機化合物からなる発光層をウェットプロセスで形成する有機EL装置の製造方法において、
前記陽極または前記陰極と前記発光層との間の少なくとも一方に、金属酸化物薄膜をドライプロセスで形成することを特徴とする、有機EL装置の製造方法。
IPC (2件):
FI (4件):
H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05B33/22 A
, H05B33/22 C
Fターム (4件):
3K007AB11
, 3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
引用特許:
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