特許

J-GLOBAL ID：200903010268405543

現像方法および現像装置

発明者： 戸島 孝之 ,  大森 伝 ,  木村 義雄
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-067271
公開番号（公開出願番号）：特開2000-330298
出願日： 2000年03月10日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：

【要約】【課題】 線幅を均一にすることができ、現像液塗布の際に欠陥が生じ難い現像方法および現像装置を提供すること。【解決手段】 基板W上のレジスト膜51の上の全面に感光基を有する溶液を塗布して感光膜53を形成する工程と、その上の全面に現像液を塗布して現像パドル54を形成する工程と、レジスト膜51上に塗布された感光層53を全面を露光する工程とにより、基板上に形成された、所定パターンに露光されたレジスト膜を現像する。

請求項（抜粋）：

基板上に形成されたレジスト膜を所定パターンに露光した後、露光パターンを現像する現像方法であって、基板上のレジスト膜の上の全面に感光基を有する溶液を塗布する工程と、その上の全面に現像液を塗布する工程と、前記レジスト膜上に塗布された前記感光基を有する溶液の全面を露光する工程とを具備することを特徴とする現像方法。

IPC (3件)：

G03F 7/38 511 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/38 511 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 569 F