特許
J-GLOBAL ID：200903010277120721
X線回折顕微方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-174518
公開番号（公開出願番号）：特開平5-074907
出願日： 1991年06月19日
公開日（公表日）： 1993年03月26日
要約：
【要約】【目的】 (100)Siウェーハの表面極く近傍の微小な結晶欠陥・応力場を回折顕微法的に観察すると同時に、観察された結晶欠陥・応力場周辺での極く微量な不純物原子分布を検出する。【構成】 第一ゴニオメータ13のヘッドに設置されたモノクロメータ14によって、シンクロトロンの放射光11より波長を選別する。この選別された波長を有するX線15と第二ゴニオメータ17を用いて、(100)Siウェーハ18の非対称反射を生じさせる。このとき、X線15の(100)Siウェーハ18への入射角が臨界角以下となるように、第一ゴニオメータ13のω回転を逐次低角側に回転させる。二次元検出器111によって検出されたスペクトルを選別した後、画像装置114によって重ね合わすことにより、結晶欠陥・応力場周辺での不純物分布を得ることができる。☆補削除
請求項（抜粋）：
ω-2θ回転可能な第一ゴニオメータのヘッドに設置されたモノクロメータによってシンクロトロン放射光から所望の波長をもつX線を選別し、その選別された波長をもつX線を用いて、ω-2θ回転可能な第二ゴニオメータのヘッドに設置された(100)Siウェーハの非対称反射を生じさせ、このとき、前記X線の(100)Siウェーハへの入射角が臨界角以下となるように逐次制御し、この条件下で(100)Siウェーハの非対称反射による信号を検出し、これらの検出された信号を重ね合わすことにより、結晶欠陥・応力場周辺での不純物分布を得ることを特徴とするX線回折顕微方法。
IPC (2件)：
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