特許

J-GLOBAL ID：200903010282057337

蒸発源及びこれを用いた薄膜形成装置

発明者： 根岸 敏夫 ,  菊地 博
出願人/特許権者： 株式会社アルバック
代理人 (2件)： 阿部 英樹 ,  石島 茂男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-274497
公開番号（公開出願番号）：特開2004-107762
出願日： 2002年09月20日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：

【課題】均一な膜厚分布で長寿命の有機薄膜を形成可能な薄膜形成装置を提供する。【解決手段】本発明の薄膜形成装置は、基板に対して薄膜を形成するための真空槽内に、3つの細長の蒸発源3が平行に配設されている。各蒸発源3a、3b、3cには、細長の長方形形状の蒸発口33a、33b、33cが形成されている。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

所定の蒸発材料を収容可能な蒸発容器を有し、 前記蒸発材料の蒸気が通過する細長形状の蒸発口が設けられていることを特徴とする蒸発源。

IPC (3件)：

C23C14/24 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14

FI (4件)：

C23C14/24 A ,  C23C14/24 C ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (10件)：

3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DA10 ,  4K029DB12 ,  4K029DB14

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-297549
  
• 特開昭59-043876
  
• 特開昭59-113180