現場で材料を濃縮するミクロ流体方法、装置及びシステム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：川原田一穂
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-539796
公開番号（公開出願番号）：特表2004-513342
出願日： 2001年10月30日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：

材料を、該材料の全体の速度が低下する領域中に移動させて、これらの低下速度領域内に材料の堆積を生じさせることにより、ミクロ流体チャンネルネットワーク内の材料を濃縮する方法。これらの方法、装置及びシステムは、向流流動法と同様、速度差を生じさせて微小規模のチャンネル内で材料を濃縮するため、静的流体界面を使用する。

請求項（抜粋）：

少なくとも第一及び第二チャンネル部を供給する工程であって、該第二チャンネル部は第一チャンネル部と交差すると共に流動可能に連絡し、該第一チャンネル部の内部には少なくとも第一及び第二流体領域が配置され、該第一流体領域は材料を含有すると共に第二流体よりも低い電導率を有し、かつ該第一及び第二流体は第一のほぼ静的な界面において接触している該工程、及び前記第一のほぼ静的な界面において材料を濃縮するため、第一チャンネル部の第一及び第二流体領域に電場を印加する工程、を含む材料の濃縮方法。

IPC (7件)：

G01N1/28 , B01D57/02 , B01J19/00 , B03C5/00 , G01N1/10 , G01N27/447 , G01N37/00

FI (7件)：

G01N1/28 J , B01D57/02 , B01J19/00 321 , B03C5/00 Z , G01N1/10 G , G01N37/00 101 , G01N27/26 331E

Fターム (22件)：

2G052AA28 , 2G052CA03 , 2G052DA09 , 2G052ED14 , 2G052FD06 , 2G052FD20 , 2G052GA11 , 2G052GA21 , 2G052JA05 , 2G052JA11 , 4D054FA01 , 4D054FB20 , 4G075AA13 , 4G075AA39 , 4G075BB01 , 4G075CA14 , 4G075DA02 , 4G075EB50 , 4G075EE01 , 4G075EE03 , 4G075FA01 , 4G075FC11

引用特許：

審査官引用 (1件)

マイクロスケール全分析システム
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-608171 出願人：エコールポリテクニークフェデラルドウローザンヌ

引用文献：

審査官引用 (2件)

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