特許
J-GLOBAL ID：200903010292359765
露光装置および露光方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-075624
公開番号（公開出願番号）：特開平7-283119
出願日： 1994年04月14日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：
【要約】【目的】 パタ-ン間の位置合わせの不用な露光と投影マスクパタ-ンの変更の容易な露光を目的とする。【構成】 光源から発生される光の偏光を制御する偏光フィルタと投影マスクから透過した偏光成分を選択する偏光フィルタおよび異なる旋光特性を有したパタ-ンを内在した投影マスクから構成される。【効果】 一枚のマスク内に複数のパタ-ンを内在し、これらのパタ-ン間の正確な位置決めが確実にでき、また投影マスクのパタ-ン形成も容易にできる。
請求項（抜粋）：
光源および投影マスクおよび投影レンズからなり投影マスク上のパタ-ンをウェ-ハ上に露光する露光装置において、光源と投影マスクの間に光源から発せられる光の偏光方向を制御する偏光フィルタと投影マスクとウェ-ハの間に投影マスクからの透過光の偏光方向を制御する偏光フィルタを設けたことを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 515 D
, H01L 21/30 527
