特許
J-GLOBAL ID：200903010302094188
真空乾燥装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中倉 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-266485
公開番号（公開出願番号）：特開2004-101130
出願日： 2002年09月12日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：
【課題】乾燥時間を短縮することができる新しいタイプの真空乾燥装置を提供する。【解決手段】ワークを収容する乾燥室1と、該乾燥室1を加熱する熱媒体槽2と、上記乾燥室1と管路4で連通/遮断自在に設けられた真空室3と、該真空室3を減圧可能な真空ポンプ7と、乾燥室1に加熱された窒素ガスを供給可能な不活性ガス供給器11と、上記管路4に設けられた電磁弁5と、を有する。乾燥室1内に窒素ガスを充填し、真空室3を真空ポンプ7で減圧する。所定の圧に減圧されたら、電磁弁5を開く。すると、乾燥室1内は急激に減圧され、乾燥室1内には突風が起こる。この突風によりワークに付着している水分がワークから吹き飛ばされて室内空間に飛散し、管路4を通って真空室3内に吸い込まれる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ワークを収容する乾燥室(1)と、該乾燥室を加熱する熱源(2)と、上記乾燥室と連通/遮断自在に設けられた真空室(3)と、該真空室を減圧可能な真空ポンプ(7)と、上記乾燥室と真空室との間を連通/遮断する弁装置(5)と、を有することを特徴とする真空乾燥装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (7件)：
3L113AB06
, 3L113AC08
, 3L113AC24
, 3L113AC67
, 3L113BA39
, 3L113CA10
, 3L113DA10
