特許
J-GLOBAL ID：200903010304517620
非接触電流注入装置とその線形二極回路への応用方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大島 陽一 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-516040
公開番号（公開出願番号）：特表平8-508337
出願日： 1993年12月20日
公開日（公表日）： 1996年09月03日
要約：
【要約】本発明は、非接触電流注入装置と、この装置を線形集積二極回路に適用する方法に関する。この電流注入装置は較正モードと注入モードの2つのモードを有する。この装置は照明源を含み、所望の位置にある電子構成要素の方へ光子を放射させ、この電子構成要素に電流を発生させる。この装置は、更に制御ループを含んで照明源に所望のレベルにまで照射させる電圧制御信号を発生させ、フィードバックループを含んで電子構成要素に誘導された電流をモニタしてこの電流または他の端効果を所望の電流または端効果と比較させる。この装置はまた記憶装置を含んで、較正シーケンスについての情報を確保させている。この装置を用いる方法は、各位置にターゲット(照射を受ける極板)を持つ一連の較正位置を有する試験アレイを用いてこの装置を較正する過程と、強度制御信号をこの照明源に与える過程と、この較正位置の1つにあるターゲットを照射をなす過程と、光子の放射によってターゲットに発生した端効果をモニタする過程からなる。
請求項（抜粋）：
電子回路を試験することに用いられる非接触電流注入装置が、 試験される電子回路の電子構成要素に電流を注入するための非接触手段であって、前記電子回路の一部分を形成している或る位置を照射する手段を有する、該非接触電流注入手段と、 前記照射手段を調節するために制御信号を発生させる手段と、 前記位置の照射の結果として前記回路に生成された端効果をモニタする手段とを有することを特徴とする非接触電流注入装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01R 31/28 L
, H01L 21/66 B
